Представлены результаты исследований процессов модификации поверхности кварцевых стекол при облучении их пучком электронов с энергией 5–15 кэВ и плотностью мощности 104 Вт/см2. Показано, что при сканировании поверхности стекла пучком электронов с энергией более 10 кэВ в приповерхностном слое формируются продольные каналы, глубина которых зависит от энергии электронного пучка и скорости его перемещения по поверхности. Снижение скорости сканирования до 10 см/с приводит к формированию серии кратеров. При энергии электронов менее 5 кэВ видимых изменений поверхности не происходит. Изменение морфологии облученного стекла приводит к повышению гидрофобности поверхности, а также к снижению коэффициента пропускания для коротковолновой области спектра.
The results of studies the processes of modification of the quartz glasses surface by an electron beam with energy of 5–15 keV and a power density of 104 W / cm2 are presented. It is shown that at scanning a glass surface with a beam of electrons with energy of more than 10 keV, longitudinal channels are formed in the near-surface layer, the depth of which depends on the energy of the electron beam and the speed of its movement along the surface. Reducing the scanning speed to 10 cm / s leads to the formation of a series of craters. At electron energy of less than 5 keV, no visible surface changes occur. A change in the morphology of irradiated glass leads to an increase in the hydrophobicity of the surface, as well as to a decrease in the transmittance for the short-wavelength region.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 35193307
В представленной работе показана принципиальная возможность изменения поверхностных и оптических свойств кварцевого стекла за счет облучения электронным пучком с энергиями электронов 5–15 кэВ в форвакуумной области давлений. Изменением режимов воздействия электронного пучка на поверхность можно добиться снижения коэффициента отражения в коротковолновой области.
Изменение скорости сканирования позволяет сформировать развитую поверхность в виде серии кратеров диметром до 15 мкм при низкой скорости, либо непрерывных продольных углублений при скорости выше 50 см/с. Данный эффект может быть применим для создания функциональных свойств на поверхностях деталей и изделий из кварцевого стекла.
Список литературы
1. Брюэр Дж. Р., Гринич Д. С., Херриот Д. Р. и др. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов. Перевод с английского под редакцией Ф. П. Пресса. – Москва: Радио и связь, 1984.
2. Qiu J., Miura K., Hirao K. // Journal of Non-Crystalline Solids. 2008. Vol. 354. No. 12–13. P. 1100.
3. Gallagher J. G., de la Rue R. M. // Electronics Letters. 1976. Vol. 12. No. 16. P. 397.
4. Engheta N., Salandrino A., Alu A. // Physical Review Letters. 2005. Vol. 95. No. 9. P. 095504.
5. Ams M., Marshall G. D., Dekker P., Dubov M., Mezentsev V. K., Bennion I., Withford M. J. // IEEE Journal on Selected Topics in Quantum Electronics. 2008. Vol. 14. No. 5. P. 1370.
6. Zavestovskaya I. N. // Quantum Electron. 2010. Vol. 40. No. 11. P. 942.
7. Stepanov A. L. // Reviews on Advanced Materials Science. 2003. Vol. 4. No. 2. P. 123.
8. Obraztsov P. A., Nashchekin A. V., Panfilova A. V., Brunkov P. N., Nikonorov N. V., Sidorov A. I. // Physics of the Solid State. 2013. Vol. 55. No. 6. P. 1272.
9. Gross В., Nablo S. V. // J. Appl. Phys. 1967. Vol. 38. No. 5. P. 2272.
10. Филачев А. М., Фукс Б. И. / Прикладная физика. 1996. № 3. С. 39.
11. Бурдовицин В. А., Климов А. С., Медовник А. В., Окс Е. М., Юшков Ю. Г. Форвакуумные плазменные источники электронов. – Томск: изд-во Том. ун-та. 2014.
12. Климов А. С., Медовник А. В., Юшков Ю. Г., Тюньков А. В., Зенин А. А., Казаков А. В., Золотухин Д. Б. Применение форвакуумных плазменных источников электронов для обработки диэлектриков. – Томск: Изд-во Томск гос. ун-та систем упр. и радиэлектроники, 2017.
13. Казаков А. В., Смаилов А. С., Бурдовицин В. А., Медовник А. В., Окс Е. М. // Доклады ТУСУР. 2014. № 4 (34). С. 56.
14. Burdovitsin V. A., Medovnik A. V., Oks E. M., Yushkov Y. G., Dvilis E. S., Khasanov O. L. // Technical Physics. 2013. Vol. 58. No 1. P. 111.
15. Novoselov Y. N., Mesyats G. A., Kuznetsov D. L. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2001. Vol. 34. P. 1248.
16. Goktas H., Kirkici H., Oke G., Udrea M. V. // IEEE Transactions on Plasma Science. 2002. Vol. 30. No. 5. P. 1837.
17. Зенин А. А., Бакеев И. Ю., Бурачевский Ю. А., Климов А. С., Окс Е. М. // Письма в ЖТФ. 2016. Т. 42. № 13. С. 104.
18. Бакеев И. Ю., Зенин А. А., Климов А. С., Окс Е. М. // Прикладная физика. 2017. № 3. С. 26.
19. Зенин А. А., Климов А. С., Юшков Ю. Г., Тюньков А. В., Жалялетдинов В. А. // Доклады Томского государственного
университета систем управления и радиоэлектроники. 2017. Т. 20. № 1. С. 157.
1. Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication. Edited by GEORGE R. BREWER (Academic Press, 1980; Moscow, Radio Svyaz’, 1984).
2. J. Qiu, K. Miura and K. Hirao, Journal of Non-Crystalline Solids 354 (12–13), 1100 (2008).
3. J. G. Gallagher and R. M. de la Rue, Electronics Letters 12 (16), 397 (1976).
4. N. Engheta, A. Salandrino, and A. Alu, Physical Review Letters 95 (9), 095504 (2005).
5. M. Ams, G. D. Marshall, P. Dekker, M. Dubov, V. K. Mezentsev, I. Bennion, and M. J. Withford, IEEE Journal on Selected Topics in Quantum Electronics 14 (5), 1370 (2008).
6. I. N. Zavestovskaya, Quantum Electron. 40 (11), 942 (2010).
7. A. L. Stepanov, Reviews on Advanced Materials Science 4 (2), 123 (2003).
8. P. A. Obraztsov, A. V. Nashchekin, A. V. Panfilova, P. N. Brunkov, N. V. Nikonorov, and A. I. Sidorov, Physics of the Solid State 55 (6), 1272 (2013).
9. В. Gross and S. V. Nablo, Journal of Applied Physics 38 (5), 2272 (1967).
10. A. M. Filachev and B. I. Fuchs, Prikl. Fiz., No. 3, 39 (1996).
11. V. A. Burdovitsin, A. S. Klimov, A. V. Medovnik, E. M. Oks, and Yu. G. Yushkov, Forvacuum plasma electron sources (Izd-vo Tom. Univ., Tomsk, 2014) [in Russian].
12. A. S. Klimov, A. V. Medovnik, Yu. G. Yushkov, A. V. Turkov, A. A. Zenin, A. V. Kazakov, and D. B. Zolotukhin, Application of Fore-vacuum Plasma Electron Sources for Processing of Dielectrics (Izd-vo Tom. Gos. Un-iv., Tomsk, 2017) [in Russian].
13. A. V. Kazakov, A. S. Smailov, V. A. Burdovitsin, V. A. Medovnik, and E. M. Oks, Doklady Tomskogo Gosudarstvennogo Universiteta Sistem Upravleniya i Radioelektroniki 4 (34), 56 (2014).
14. V. A. Burdovitsin, A. V. Medovnik, E. M. Oks, Y. G. Yushkov, E. S. Dvilis, and O. L. Khasanov, Technical Physics 58 (1), 111 (2013).
15. Y. N. Novoselov, G. A. Mesyats, and D. L. Kuznetsov, J. Phys. D: Appl. Phys. 34, 1248 (2001).
16. H. Goktas, H. Kirkici, G. Oke, and M. V. Udrea, IEEE Transactions on Plasma Science 30 (5), 1837 (2002).
17. A. A. Zenin, I. Y. Bakeev, Y. A. Burachevskii, A. S. Klimov, and E. M. Oks, Technical Physics Letters, 42 (7), 712 (2016).
18. I. Yu. Bakeev, A. A. Zenin, A. S. Klimov, and E. M. Oks, Prikl. Fiz., No. 3, 26 (2017).
19. A. A. Zenin, A. S. Klimov, Yu. G. Yushkov, A. V. Turkov, and V. A. Zalaletdinov, Doklady Tomskogo Gosudarstvennogo Universiteta Sistem Upravleniya i Radioelektroniki 20 (1), 157 (2017).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Комбинация емкостного высокочастотного разряда и разряда постоянного тока для использования в плазменном ускорителе с замкнутым дрейфом электронов. Часть II. Функции распределения ионов по энергиям Задириев И. И., Кралькина Е. А., Вавилин К. В., Швыдкий Е. В., Александров А. Ф. 5
Влияние особенностей разрядных камер стреляющих полупроводниковых свечей газотурбинных двигателей на характеристики плазменного выброса Гизатуллин Ф. А., Салихов Р. М. 10
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Моделирование вольт-фарадных характеристик МДП-структур на основе МЛЭ HgCdTe при неоднородном распределении состава и легирующей примеси Войцеховский А. В., Несмелов С. Н., Дзядух С. М. 15
Особенности адмиттанса МДП структур на основе МЛЭ p-Hg1-xCdxTe (x = 0,30) Войцеховский А. В., Несмелов С. Н., Дзядух С. М., Варавин В. С., Дворецкий С. А., Михайлов Н. Н., Якушев М. В., Сидоров Г. Ю. 22
Использование квантовых точек на основе CdSe/CdS/ZnS в компланарных емкостных струк-турах для оптических датчиков жидких и газовых средах Павлов С. А., Павлов А. С., Максимова Е. Ю., Алексеенко А. В., Павлов А. В., Антипов Е. М. 27
Неоднородные распределение дефектов и времени жизни при диффузии фосфора в кремний, выращенного методом Чохральского Вильдяева М. Н., Климанов Е. А., Ляликов А. В., Скребнева П. С. 33 ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ Влияние электронно-лучевой обработки на оптические и поверхностные свойства кварцевых стекол Зенин А. А., Климов А. С., Окс Е. М. 37
Исследование спектров люминесценции покровной ткани семян растений Зиенко С. И., Беляков М. В., Малышкин В. В. 43
Температурные зависимости парциальных давлений компонентов газовой фазы над распла-вами системы Al-N Ильиных Н. И., Малкова И. А. 49
Образование регулярных доменных структур в сегнетоэлектриках при воздействии одно-родного электрического поля и упругих волн: дилемма несущих частот Крутов В. В., Сигов А. С., Щука А. А. 53
Магнитоэлектрические характеристики структур, полученных методом гальванического осаждения никеля и олова на подложку из арсенида галлия Филиппов Д. А., Маничева И. Н., Лалетин В. М., Фирсова Т. О., Галичян Т. А. 58
Влияние вольфрама на скорость поверхностной рекомбинации в кремнии Цвигун Н. В., Копица Г. П., Власова Т. В., Крыштоб В. И., Расмагин С. И. 64
Влияние термомеханического воздействия на светостойкость полиэтилена Гафуров С. Дж., Бобоев Т. Б., Истамов Ф. Х. 70
Контролируемое формирование слоев графена термодеструкцией SiC в потоке атомов желе-за Буташин А. В., Муслимов А. Э., Каневский В. М. 74
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Высокочувствительное устройство измерения коэффициента концентрации энергии при синтезе ИК-изображений для тестирования характеристик матричных фотоприемных устройств Верхогляд А. Г., Гибин И. С., Елесин А. Г., Макаров С. Н., Ступак М. Ф. 79
Высоковольтная импульсная система для электроформования сложноструктурированных полимерных материалов Кашин А. В., Ребров И. Е., Хомич В. Ю. 85
Микрокриогенная система Стирлинга со ступенью охлаждения на основе магнитокалориче-ского эффекта Самвелов А. В., Чепурнов Е. Л., Минаев Д. В., Пахомов О. В. 90
ИНФОРМАЦИЯ
Правила для авторов 94
X-th International Workshop Microwave Discharges: Fundamentals and Applications (MD-10) 97
C O N T E N T S
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
Combination of a capacitive high-frequency discharge and a DC discharge for use in a plasma accelerator with a closed electron drift. Part II. Ion energy distribution functions I. I. Zadiriev, E. A. Kralkina, K. V. Vavilin, E. V. Shvidkiy, and A. F. Aleksandrov 5
Influence of the features of the discharge chambers of semiconductor glow plugs of gas turbine engines on characteristics of the plasma ejection F. A. Gizatullin and R. M. Salikhov 10
PHOTOELECTRONICS
Modeling of the capacitance-voltage characteristics of MIS structures based on MBE HgCdTe at inhomogeneous distribution of composition and dopant A. V. Voitsekhovskii, S. N. Nesmelov, and S. M. Dzyadukh 15
Features of the admittance of MIS structures based on MBE p-Hg1-xCdxTe (x = 0.30) A. V. Voitsekhovskii, S. N. Nesmelov, S. M. Dzyadukh, V. S. Varavin, S. A. Dvoretsky, N. N. Mi-khailov, M. V. Yakushev, and G. Yu. Sidorov 22
The use of quantum dots based on CdSe / CdS / ZnS in coplanar capacitive structures for optical sensors liquid and gas environments S. A. Pavlov, A. S. Pavlov, E. Yu. Maksimova, A. V. Alekseenko, A. V. Pavlov, and E. M. Antipov 27
Inhomogeneous distribution of defects and lifetime when phosphorus is diffused into silicon grown by the Czochralski method M. N. Vil’dyaeva, E. A. Klimanov, A. V. Lyalikov, and P. S. Skrebneva 33
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
Effect of electron-beam processing on the optical and surface properties of quartz glasses A. A. Zenin, A. S. Klimov, and E. M. Oks 37
Investigation of luminescence spectra of the plant tissue cover tissue S. I. Zienko, M. V. Belyakov, and V. V. Malyshkin 43
Temperature dependences of the partial pressures of the gas phase components above the melts of the Al-N system N. I. Ilinykh and I. А. Malkova 49
Phenomenon of formation of regular domain structures in ferroelectrics by uniform electric field and elastic waves: the dilemma of carrier frequencies V. V. Krutov, A. S. Sigov, and A. A. Shchuka 53
Magnetoelectric characteristics of a structure, obtained by galvanic deposition of tin and nickel on a gallium arsenide substrate D. A. Filippov, I. N. Manicheva, V. M. Laletin, T. O. Firsova, and T. A. Galichyan 58
Effect of tungsten on the rate of surface recombination in silicon N. V. Tsvigun, G. P. Kopitsa, T. V. Vlasova, V. I. Kryshtob, and S. I. Rasmagin 64
Influence of a thermomechanical prehistory on light resistance of polyethylene S. J. Gafurov, T. B. Boboev, and F. H. Istamov 70
Controlled formation of graphene layers by thermodestruction of SiC in the stream of iron atoms A. V. Butashin, A. E. Muslimov, and V. M. Kanevski 74
PHYSICAL APPARATUS AND ITS ELEMENTS
High-sensitivity device for measuring the energy concentration factor in the synthesis of IR images for testing characteristics of array photodetectors A. G. Verhoglyad, I. S. Gibin, A. G. Elesin, S. N. Makarov, and M. F. Stupak 79
High-voltage power system for electrospinning of complex-structured polymer materials A. V. Kashin, I. E. Rebrov, and V. Yu. Khomich 85
Microcryogenic Stirling system with a cooling stage based on the magnetocaloric effect A. V. Samvelov, E. L. Chepurnov, D. V. Minaev, and O. V. Pakhomov 90
INFORMATION
Rules for authors 94
X-th International Workshop Microwave Discharges: Fundamentals and Applications (MD-10) 97
Другие статьи выпуска
Статья посвящена исследованию электронных свойств материала покровной ткани семян растений: ржи, пшеницы, ячменя и козлятника при комнатной температуре. Обнаружено существование в покровной ткани семян растений в состоянии покоя селективных фотоактивных центров поглощения света на длинах волн для ржи 424 нм, пшеницы 423 нм, ячменя 444 нм и козлятника 461 нм, что соответствует синей части света. По спектру диффузного отражения поверхности семян растений определяли спектральный ход и форму кривой поглощения. Для описания хода изменения коэффициента поглощения использовали уравнение Кубелки и Мунка. В результате по краю оптического поглощения рассчитана оптическая ширина запрещенной зоны, которая в зависимости от типа семени изменяется от 3 до 3,4 эВ. Из чего можно заключить, что материал покровной ткани семян растений проявляет свойства широкозонного полупроводника.
Методом спада фотопроводимости μ-PCD и селективного травления исследовалось влияние диффузии фосфора на образование кольцевых неоднородностей в распределении микродефектов и времени жизни неосновных носителей заряда в кремниевых образцах. С помощью метода селективного травления показано, что диффузия фосфора с высокой концентрацией приводит к процессу роста кислородных преципитатов, приводящему к возрастанию неравномерности в распределении микродефектов и времени жизни неосновных носителей заряда. Причиной, вызывающей ускоренный рост преципитатов в областях диффузии, является генерация вакансий диффузионным слоем.
Рассмотрены особенности использования компланарных емкостных структур в качестве измерительной ячейки люминесцентных датчиков с сенсорными слоями, содержащих квантовые точки на основе халькогенидов Cd и Zn. Установлено, что такого типа ячейки позволяют, с одной стороны, получать информацию о диэлектрических свойствах чувствительного слоя, а с другой стороны, предоставляют нам ценную возможность осуществления различных физических воздействий на чувствительный слой, например, таких как облучения возбуждающим светом, проводить контакт с газовыми и жидкими средами и одновременно регистрировать интенсивность люминесцентного потока. Рассмотренные планарные структуры были использованы для изучения формирования аналитического сигнала от чувствительного слоя, состоящего из поливинилена, допированного квантовыми точками. Установлено существенное изменение проводимости матрицы в процессе возбуждения люминесценции квантовых точек, происходящее за счет передачи энергии электронного возбуждения от квантовых точек к полимерной матрице.
В широком диапазоне условий измерения экспериментально исследован адмиттанс МДПструктур на основе МЛЭ p-Hg1-xCdxTe/Si(013) с приповерхностным варизонным слоем с повышенным содержанием CdTe и без такого слоя, причем при использовании в качестве диэлектрика Al2O3 и CdTe/Al2O3. Показано, что вольт-фарадные характеристики (ВФХ) МДПструктур на основе МЛЭ p-Hg0,70Cd0,30Te без варизонного слоя при 77 К имеют высокочастотный вид относительно времени перезарядки быстрых поверхностных состояний. Это позволяет определять концентрацию дырок по значению емкости в минимуме низкочастотной ВФХ при 77 К (в отличие от случая x = 0,21–0,23). Установлено, что для МДП-структуры на основе p-HgCdTe с варизонным слоем значения дифференциального сопротивления области пространственного заряда в режиме сильной инверсии в 10–100 раз больше, чем для МДПструктуры на основе p-HgCdTe без такого слоя.
Проведено численное моделирование низкочастотных и высокочастотных вольт-фарадных характеристик (ВФХ) МДП-структур на основе n-Hg0,70Cd0,30Te с приповерхностным варизонным слоем с повышенным содержанием CdTe и неоднородным по толщине распределением концентрации донорной примеси в приповерхностном слое полупроводника. Показано, что неоднородное распределение концентрации электронов существенно влияет на вид ВФХ МДП-структуры на основе n-HgCdTe с приповерхностным варизонным слоем, что может искажать результаты определения спектра поверхностных состояний. Значение емкости в минимуме низкочастотной ВФХ определяется концентрацией электронов на границе области пространственного заряда с квазинейтральным объемом. Установлено, что при определении концентрационных профилей по наклону C -2(V)-зависимости в режиме обеднения надо учитывать наличие приповерхностных варизонных слоев, которые влияют на граничные значения диапазона определения концентрации. Полученные результаты качественно согласуются с экспериментальными данными.
Методом высокоскоростного фотографирования исследуется влияние конструктивных особенностей разрядных камер стреляющих полупроводниковых свечей на пространственновременные характеристики плазменного выброса. С целью уточнения приоритетного влияния различных факторов на характер движения плазмы в разрядной камере свечи изготовлены макеты стреляющих свечей, усиливающие воздействие отдельных факторов. В результате исследований установлено, что основное влияние на траекторию движения плазмы разряда оказывает совместное действие кумулятивного эффекта и отражение плазмы от стенки разрядной камеры, противоположной месту образования разряда.
Экспериментально исследованы функции распределения ионов по энергиям на выходе из гибридного разряда, основанного на комбинации емкостного ВЧ-разряда и разряда постоянного тока, в источнике плазмы с геометрией ускорителя с замкнутым дрейфом электронов. Показано, что наличие постоянного смещения активного электрода сопровождается увеличением энергии и плотности ионов на срезе ускорителя. Изменение мощности, вводимой в разряд через ВЧ-канал, и величины постоянного смещения, подводимого к активному электроду через канал постоянного тока, позволяют независимо управлять энергией и плотностью потока ионов.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400