Статья: Исследование возможности применения нейронных сетей при определении дефектов полупроводниковых материалов по изображениям растровой электронной микроскопии

Исследование посвящено разработке способа обнаружения дефектов в полупроводниковом производстве с помощью нейронных сетей по изображениям , полученным при помощи растрового электронного микроскопа. Проведено исследование метода, позволяющего сократить время обработки полученных изображений при поиске дефектов.